关于完善中关村国家自主创新示范区高新技术企业认定管理试点工作的通知(13)
术;高速、高精、超宽、薄壁连铸连轧和高度自动化生产板、带、箔技术;金属
半固态成型和近终成型技术;短流程生产工艺技术;先进制粉技术,以及实现致
密化、组织均匀化、结构功能一体化或梯度化的粉末冶金成型与烧结技术;摩擦
焊接技术;物理和化学表面改性技术;基于等离子、激光、电磁感应和爆炸等方
法的厚涂层制备技术。
* 常规铸造、常规机加工项目,电弧喷涂、镀锌磷化、电镀硬铬(铜)、火焰喷
涂、喷焊、渗氮渗碳等中低档表面工程技术的项目除外。
(二)无机非金属材料
1、高性能结构陶瓷及陶瓷基复合材料强化增韧技术
制造强度高、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、耐烧蚀等优越性能结构陶瓷的超细
粉末制备技术、成型及控制烧结工艺和晶界工程及强化、增韧技术;现代工业用
陶瓷结构件制备技术;特殊用途的高性能陶瓷结构件制备技术;有重要应用前景
的高性能陶瓷基复合材料和超硬复合材料制备技术;陶瓷-金属复合材料,高温过
滤及净化用多孔陶瓷材料,连续陶瓷纤维及其复合材料制备技术,高性能、细晶
氧化铝产品,多功能、多层结构复相陶瓷、碳化硅陶瓷的特种制备技术。
*一般用途的超细粉体除外。
2、高性能功能陶瓷制备技术
高性能功能陶瓷的粉末制备、成型及烧结工艺控制技术,无铅化制备技术,
包括大规模集成电路封装、贴片专用高性能电子陶瓷材料制备技术;微电子和真
空电子用新型高频高导热绝缘陶瓷材料制备技术;新型微波器件及电容器用介电
陶瓷和铁电陶瓷材料制备技术;传感器和执行器用各类敏感功能陶瓷材料制备技
术;激光元件(激光调制、激光窗口等)用功能陶瓷材料制备技术;光传输、光
转换、光放大、红外透过、光开关、光存储、光电耦合等用途的光功能陶瓷及各
种功能陶瓷用薄膜制备技术。
3、人工晶体生长技术
新型非线性光学晶体、激光晶体材料制备技术;高机电耦合系数、高稳定性
铁电、压电晶体材料制备技术;特殊应用的光学晶体材料制备技术;新型超硬材
料及制品制备技术;衰减时间短、能量分辨率高、光产额高的新型闪烁晶体材料
制备技术。
* 钽酸锂、铌酸锂、钒酸钇、蓝宝石和石英晶体除外。
4、功能玻璃制备技术
具有特殊性能和功能的玻璃或无机非晶态材料的制备技术。包括光传输或成
像用玻璃制备技术;光电、压电、激光、电磁、耐辐射、闪烁体等功能玻璃制备
技术;屏蔽电磁波玻璃制备技术;新型高强度玻璃制备技术;生物体和固定酶生
物化学功能玻璃制备技术;新型玻璃滤光片、光学纤维面板、光学纤维倒像器、X
射线像增强器用微通道板制备技术。
5、节能与环保用新型无机非金属材料制备技术
替代传统材料,可显著降低能源消耗的无污染节能材料制造技术;与新能源
开发和利用相关的无机非金属材料制备技术;高透光新型透明陶瓷制备技术;环
保用高性能多孔陶瓷材料制备技术;低辐射镀膜玻璃及多层膜结构玻璃及高强单
片铯钾防火玻璃制备技术。
(三)高分子材料
1、高性能高分子结构材料的制备技术
高强、耐高温、耐磨、超韧的高性能高分子结构材料的设计、合成及改性技
术等,包括特种工程塑料制备技术;具有特殊功能、特殊用途的高附加值热塑性
树脂制备技术;关键的聚合物单体制备技术。
2、新型高分子功能材料的制备及应用技术
膜组件、光电信息高分子材料、液晶高分子材料、形状记忆高分子材料、高
分子阻尼材料、高分子相变材料、高分子转光材料、具有特殊功能、高附加值的
特种高分子材料及以上材料的应用技术。
3、高分子材料的低成本、高性能化技术
高刚性、高韧性、高电性、高耐热的聚合物合金或改性材料技术;新型热塑
性弹性体;具有特殊用途、高附加值的新型改性高分子材料技术。
* 以下普通材料除外:普通塑料的一般改性专用料;普通电线、电缆专用料;
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